随着半导体制程技术的飞速发展，芯片线宽已经进入纳米级，相应的产品对半导体产品生产环境的要求越来越高，因此半导体洁净室内AMC的控制标准也提高了很多。
1、洁净室新风控制：在MAU内加装化学过滤器，控制室外新风中的化学污染物；
2、洁净室循环风控制：在FFU上方加装化学过滤器，控制整个洁净室内部的气态化学污染物；
3、洁净室机台控制：在生产机台上方加装化学过滤器，机台内部空间超洁净度的气态污染物控制。

 

编号	应用场地	可选装置	功能
①	新风入口处	侧开式净化机组	去除外部环境进入洁净室的AMC
②	空调机组内	CCST化学过滤器	去除外部环境和回风进入洁净室的AMC
③	FFU处	CCST化学过滤器	去除送风过程进入洁净室的AMC
④	洁净室内	内循环净化装置	去除洁净室内产生的AMC
⑤	回风段	CCST化学过滤器/侧开式净化机组	去除洁净室回风段含有的AMC